“社长，你这个模型要是发出去，估计可以引发材料学革命。”马知力赞叹道。
h明哲摇摇头说道：“这种国际JiNg神要不得，这个模型我们内部自己用就可以了。”
“社长说得对。”
“我看了你们的报告，现在我给你们下一个任务。”
“社长请吩咐。”马知力连忙拿出笔记本说道。
“研发一种XS线高敏胶。”
“XS线高敏胶?社长是想研发光刻胶吧！”马知力一听便知道h明哲的打算。
h明哲点了点头：“没有错，就是XS线级别的光刻胶，我提几个要求，波长最好在3～8纳米之间；XS线敏感度要足够高，最好可以在几秒钟之内彻底溶解；另外对於XS线的能量级别，最好不需要高能级就可以实现快速光分解。”
“社长，如果我们研发XS线光刻胶，这个可是没有客户的。”马知力提醒道。
目前市面上的光刻机的光源，一般分为紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV），其中最先进的光刻机，就是尼德兰的阿斯麦公司生产的极紫外光（EUV），波长为13.4纳米。
但是其实在上个世纪八十年代，光刻机行业之中，还有除了极紫外光（EUV）路线，还存在着另一个路线——XS线光刻机。
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