这个年代的光刻机技术的领跑者可不是asml，此时的asml仅仅是个30来人团队的小公司而已。
尼康和佳能才是此时的巅峰存在，摆在光刻机领域面前有个关卡，光源波长卡在了193nm，几年毫无寸进。
尼康等公司主张用在前代技术的基础上，采用157nm的f2激光，走稳健道路。
以amsl公司为代表的新生euv-llc联盟则押注更激进的极紫外技术。
但技术都已经走到这地步，不管哪一种方法，做起来其实都不容易。
双方都只能重金押注各自的技术路线。
后面发生的结果大家都知道了，amsl公司在一位鬼才的帮助下，极紫外技术获得了成功。
“沉浸式光刻”方案使得原有的193nm激光光波，直接越过了157nm的天堑，降低到了132nm！
而尼康和佳能的联盟此时止步于157nm，技术上被amsl远远的甩在了身后。
这也代表着二者数百亿美元重注的干式微影技术路线，就此打了水漂。
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